五溫區(qū)CVD一體機(jī)
發(fā)布時(shí)間： 2023-11-10 10:29:11 瀏覽次數(shù)：953
設(shè)備簡(jiǎn)介：
化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實(shí)驗(yàn)室、科研院所、環(huán)?？茖W(xué)等領(lǐng)域；
CVD系統(tǒng)一體爐，供氣和真空系統(tǒng)靈活組合，滿(mǎn)足各類(lèi)薄膜沉積，在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛。包括沉積大面積的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。諾巴迪成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實(shí)驗(yàn)室、科研院所、環(huán)?？茖W(xué)等領(lǐng)域。
| 設(shè)備特點(diǎn)： 1、控制穩(wěn)定可靠，操作方便。 2、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。 3、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料，保溫效果更好，節(jié)能降耗。 4、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能，可保存燒結(jié)的重要參數(shù)，時(shí)長(zhǎng)達(dá)30天之久（每天開(kāi)機(jī)8小時(shí)）。 5、配方功能，可預(yù)存配方100條以上。 6、五個(gè)溫區(qū)獨(dú)立控制，使客戶(hù)燒結(jié)工藝更加復(fù)雜多樣。 7、聯(lián)網(wǎng)功能，通過(guò)RJ45接口，采用TCP/IP協(xié)議，可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連（上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件）。 | ||||||
產(chǎn)品型號(hào) | NBD-T1200-100T5G4F | ||||||
供電電源 | 三相380V 50HZ | ||||||
額定功率 | 10KW | ||||||
測(cè)溫元件類(lèi)型 | K型熱電偶 200mm | ||||||
最高溫度 | 1150℃ | ||||||
加熱溫區(qū)尺寸 | Φ150*1135mm | ||||||
爐管尺寸 | Φ100*1600mm | ||||||
爐體尺寸 | 長(zhǎng)1900*高1250*深900mm | ||||||
推薦升溫速率 | 10℃/min | ||||||
重量 | 350kg | ||||||
設(shè)備細(xì)節(jié) |  | ||||||
控制系統(tǒng) |
| 1、燒結(jié)工藝曲線(xiàn)設(shè)置：動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線(xiàn)，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線(xiàn)，每條工藝曲線(xiàn)可自由設(shè)置； | |||||
溫度精度 | ±1℃ | ||||||
流程控制畫(huà)面 |  | ||||||
服務(wù)支持 | 1年質(zhì)保，提供終身支持（保修范圍內(nèi)不包括易耗部件，例如爐管和O形圈等） | ||||||
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