GaN(氮化鎵)晶體
發(fā)布時間: 2024-03-23 10:38:26 瀏覽次數(shù):582
產(chǎn)品介紹:
GaN晶體氮化鎵是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙的半導體,由于具有化學穩(wěn)定性好、熱傳導性能優(yōu)良、擊穿電壓高、大功率,近年在光電子領域和高溫高頻電子應用備受關注,是目前最優(yōu)秀的半導體材料。
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產(chǎn)品名稱: GaTe 單晶基片 技術參數(shù): 電阻率:N/A 產(chǎn)品規(guī)格; 晶向:(0001) 尺寸:10x10x1.0mm 拋光情況:拋光,自然解理面 注:可按客戶要求定制方向和尺寸 標準包裝 標準包裝:1000 級超凈室,100級超凈袋 產(chǎn)品名稱 氮化鎵(GaN)晶體基片 技術參數(shù) 晶體結構:六方晶系 晶格常數(shù)a=?3.186
??,??c?=?5.186 ? 傳導類型:N型摻Si;N型不摻雜 可用表面積:>90% 位錯密度:(5-9)x105Ω.cm 電阻率:R<0.05 Ω.cm;R<0.1Ω.cm 介電常數(shù):8.9 TTV:≤15um 密度:6.15(g/cm3) 生長方法:HVPE(氫化物氣相外延法) 產(chǎn)品規(guī)格 常規(guī)晶向: (0001) 常規(guī)尺寸:10.5x10x0.35mm、5x5x0.35mm 表面粗糙度:<5? 注:尺寸可按照客戶要求定做。 晶體缺陷 人工生長單晶有可能存在晶體內部缺陷。 標準包裝 1000級超凈室100級超凈袋或單片盒裝
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