1500℃ CVD系統(tǒng)
發(fā)布時間： 2024-04-28 07:56:07 瀏覽次數(shù)：584
設(shè)備簡介：
化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學(xué)等領(lǐng)域。
| 設(shè)備特點： 1、采用高純氧化鋁材質(zhì)爐管，耐腐蝕耐高溫性能優(yōu)越； 2、高純度Al2O3纖維耐火保溫材料，保溫效果突出，有效地降低了設(shè)備功耗； 3、爐體采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)工藝，有助于快速降低殼體表面溫度； 4、采用智能PID模糊溫度控制，7英寸觸摸屏集中操控，可直觀顯示“時間-溫度”曲線；
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設(shè)備名稱 | 高溫CVD系統(tǒng) | |||||||
T-max | 1500℃ | |||||||
電源 | 單相220V 50HZ | |||||||
額定功率 | 6KW | |||||||
| 測溫元件類型 | S型熱電偶φ8*205mm | |||||||
| Tmax | 1450℃ | |||||||
| 加熱溫度區(qū)尺寸 | 第一個溫度區(qū)：Φ100*225mm 第二個溫度區(qū)：Φ100*225mm | |||||||
| 爐管尺寸 | Φ100*1200mm | |||||||
| 外形尺寸 | 長1414m×高720mm×深514mm | |||||||
| 加熱速率 | 1℃/H-20℃/Min | |||||||
| 重量 | 350kg | |||||||
控制系統(tǒng) |
| 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置：動態(tài)顯示設(shè)置曲線，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設(shè)置； 2、可預(yù)約燒結(jié)，實現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié)； 3、實時顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù)，并可導(dǎo)出實現(xiàn)無紙記錄； 4、具有實現(xiàn)遠程操控，實時觀測設(shè)備狀態(tài)； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結(jié)全程進行非線性修正
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溫度精度 | ±1℃ | |||||||
加熱元件 |
| 抗酸耐腐性能優(yōu)越的高純硅碳棒 | ||||||
密封系統(tǒng) |
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真空度：10Pa（機械泵） | ||||||||
壓力測量與監(jiān)控 |
| 采用機械壓力表，表外殼為氣密型結(jié)構(gòu)，能有效保護內(nèi)部機件免受環(huán)境影響和雜物侵入，同時具有較強的耐腐蝕和耐高溫的能力。
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供氣系統(tǒng) | | 采用浮子流量計控制氣體流速，與設(shè)備集成為一體，且出廠前已進行漏氣測試工作。
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凈重 | 350kg | |||||||
設(shè)備使用注意事項 |
1、設(shè)備爐膛溫度≥300℃時，禁止打開爐膛，避免受到傷害； 2、爐膛連續(xù)使用產(chǎn)生的輕微裂紋屬于正?，F(xiàn)象，不影響設(shè)備的正常使用； | |||||||
服務(wù)支持 | 一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內(nèi)不包括易耗部件，例如處理管和O形圈，請在下面的相關(guān)產(chǎn)品處訂購更換件。） | |||||||
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