發(fā)布時(shí)間:2023-08-11 瀏覽次數(shù):2297
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設(shè)備簡(jiǎn)介:
PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)技術(shù)是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜生長(zhǎng)的一種制備技術(shù),主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積;高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理,可以實(shí)現(xiàn)高溫?zé)Y(jié),適用于大多數(shù)材料的熱處理以及熔煉工藝,整體采用國(guó)際先進(jìn)制造工藝,并且從美學(xué)藝術(shù)角度出發(fā),根據(jù)人體安全的角度進(jìn)行設(shè)計(jì)。它采用PLC控制,觸摸屏操作。
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配置詳情
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主要特點(diǎn):
1、高溫?zé)Y(jié)。 2、控制穩(wěn)定可靠,操作方便,安全防護(hù)措施完善。 3、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。 4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。 5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能(WIFI),可通過(guò)手機(jī)、電腦遠(yuǎn)程對(duì)設(shè)備進(jìn)行監(jiān)控,操作。 6、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時(shí)長(zhǎng)達(dá)30天之久(每天開(kāi)機(jī)8小時(shí))。 7、配方功能,可預(yù)存配方20條以上。 8、聯(lián)網(wǎng)功能,通過(guò)RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連(上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件)。
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型號(hào) |
NBD-PECVD1500-80TID3ZY |
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供電電源 |
單相220V 50HZ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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觸摸屏尺寸 |
7" |
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射頻頻率 |
13.56MHz |
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射頻功率輸出范圍 |
0-500W |
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沉積加熱額定功率 |
3KW |
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傳感器類型 |
S 型φ8*180mm |
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沉積Tmax |
1500℃ |
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沉積額定溫度 |
1450℃ |
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推薦升溫速率 |
≤5℃/min |
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爐管材質(zhì)及規(guī)格 |
剛玉Φ80*1200mm 外徑*長(zhǎng)度(厚度) |
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沉積管徑 |
Φ80mm*1200mm |
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爐膛尺寸 |
單個(gè)溫區(qū)長(zhǎng)175*高160*深140mm |
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PECVD外形尺寸 |
長(zhǎng)1500×高1350×深830mm |
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氣氛條件 |
混合氣、真空等 |
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滑動(dòng)方式 |
電機(jī)驅(qū)動(dòng)同步帶 |
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電機(jī)轉(zhuǎn)速 |
3-4轉(zhuǎn)每分鐘 |
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一轉(zhuǎn)行程 |
114mm |
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推拉最大行程 |
340mm 爐膛中心到線圈中心的距離 |
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機(jī)械泵抽氣速率 |
5m3/h |
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爐腔極限真空度 |
3~5Pa |
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重量 |
約240KG |
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設(shè)備細(xì)節(jié) |
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流程控制畫(huà)面
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控制系統(tǒng) |
1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;
2、可預(yù)約燒結(jié),實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié);
3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無(wú)紙記錄;
4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控,實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài);
5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。
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重量 |
約240KG |
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設(shè)備使用注意事項(xiàng) |
1. 射頻匹配器一般處于自動(dòng)匹配狀態(tài),一般功率需達(dá)到50W以上才能匹配; |
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服務(wù)支持 |
一年有限保修,提供終身支持; |
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